熱ナノインプリント法による原子ステップ型超平坦ポリマー基板上への半導体ナノパターンの作製

論文・著書情報

タイトル

和文:	熱ナノインプリント法による原子ステップ型超平坦ポリマー基板上への半導体ナノパターンの作製
英文:	Fabrication of semiconductor nanopatterns on atomically stepped ultra-flat polymer substrates by thermal nanoimprint technique

著者

和文:	後藤里紗, 山田志織, 三宮工, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
英文:	Risa Goto, Shiori Yamada, Takumi Sannomiya, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年8月25日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第78回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

開催地

和文:	福岡県福岡市
英文:	Fukuoka

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