Profile Control in Si Etching by Two-step Etching Process Using XeF2 Vapor for Fabrication of Concave Micromirror

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Profile Control in Si Etching by Two-step Etching Process Using XeF2 Vapor for Fabrication of Concave Micromirror

著者

和文:	松谷晃宏, 高田綾子.
英文:	Akihiro Matsutani, Ayako Takada.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proceedings of 39th International Symposium on Dry Process

巻, 号, ページ

pp. 61-62

出版年月

2017年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	39th International Symposium on Dry Process (DPS2017)

開催地

和文:
英文:	Tokyo