Ni/カルバゾールオリゴマー/Ni 単分子接合の磁気抵抗効果 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	Ni/カルバゾールオリゴマー/Ni 単分子接合の磁気抵抗効果
英文:

著者

和文:	美濃出圭悟, アルブレヒト建, 大戸達彦, 山田亮, 山元公寿, 夛田博一.
英文:	美濃出圭悟, Ken Albrecht, 大戸達彦, ryo yamada, Kimihisa Yamamoto, 夛田博一.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年12月4日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第8回分子アーキテクトニクス研究会
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開催地

和文:
英文:

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