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論文・著書情報


タイトル
和文:[19p-D101-5] ガス加熱トライオードプラズマCVD法によるSi表面パシベーション 
英文:[19p-D101-5] Si surface passivation by triode-type plasma-enhanced CVD with thermally-energized film-precursors 
著者
和文: 新倉 ちさと, 宮島 晋介.  
英文: Chisato Niikura, Shinsuke Miyajima.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2018年3月5日 
出版者
和文: 
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会議名称
和文:第65回 応用物理学会 春季学術講演会 
英文:The 65th JSAP Spring Meeting 
開催地
和文:東京 
英文:Tokyo 

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