[19a-D101-6] DC重畳RF対向ターゲットスパッタ法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜の特性

論文・著書情報

タイトル

和文:	[19a-D101-6] DC重畳RF対向ターゲットスパッタ法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜の特性
英文:	[19a-D101-6] Properties of i-a-Si:H passivation layer deposited by DC-superimposed RF facing target sputtering

著者

和文:	白取優大, ファリスアキラ, 中田和吉, 宮島晋介.
英文:	Yuta Shiratori, Akira Faris, Kazuyoshi Nakada, Shinsuke Miyajima.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年3月5日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第65回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 65th JSAP Spring Meeting

開催地

和文:	東京
英文:	Tokyo