水素ラジカル支援パルスレーザ堆積法を用いたZrH<sub>2</sub>薄膜の作製 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	水素ラジカル支援パルスレーザ堆積法を用いたZrH₂薄膜の作製
英文:	Fabrication of ZrH₂ thin films using hydrogen-radical assisted pulsed-laser deposition

著者

和文:	西暁登, 吉松公平, 大友明.
英文:	Akito Nishi, K. Yoshimatsu, A. Ohtomo.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年3月17日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第65回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 65th JSAP Spring Meeting, 2017

開催地

和文:	東京
英文:	Tokyo

公式リンク

https://meeting.jsap.or.jp/

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.