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論文・著書情報


タイトル
和文:Ga添加型Nd焼結磁石界面に対する第一原理的研究 
英文: 
著者
和文: 立津 慶幸, 合田義弘.  
英文: Y. Tatetsu, Yoshihiro Gohda.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2018年4月2日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:物性研究所スパコン共同利用・CCMS合同研究会「計算物質科学の今と未来」 
英文: 
開催地
和文:千葉県 
英文: 

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