Effect of the film thickness on the crystal structure and ferroelectric properties of (Hf0.5Zr0.5)O2 thin films deposited on various substrates

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of the film thickness on the crystal structure and ferroelectric properties of (Hf0.5Zr0.5)O2 thin films deposited on various substrates

著者

和文:	白石貴久, Kiliha Katayama, 横内達彦, 清水荘雄, 及川貴弘, 坂田修身, 内田寛, Yasuhiko Imai, 木口賢紀, Toyohiko J. Konno, 舟窪浩.
英文:	Takahisa Shiraishi, Kiliha Katayama, Tatsuhiko Yokouchi, Takao Shimizu, Takahiro Oikawa, Osami Sakata, Hiroshi Uchida, Yasuhiko Imai, Takanori Kiguchi, Toyohiko J. Konno, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Materials Science in Semiconductor Processing

巻, 号, ページ

vol. 70 pp. 239–245

出版年月

2017年11月

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文: