Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜の室温下レーザー照射固相エピタキシーにおける膜厚や緩衝層の影響

論文・著書情報

タイトル

和文:	Ga₂O₃薄膜の室温下レーザー照射固相エピタキシーにおける膜厚や緩衝層の影響
英文:	Effect of film thickness and buffer layer on solid phase epitaxy of Ga₂O₃ by laser annealing

著者

和文:	森田公之, 中村稀星, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
英文:	Hiroyuki Morita, Kisho Nakamura, Nobuo Tsuchimine, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年3月5日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	2018年第65回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 65th JSAP Spring Meeting, 2018

開催地

和文:	東京
英文:	Tokyo

公式リンク