0.3 nm高さの直線状原子ステップを有するPMMA及びポリイミドシートにおける光化学反応および成膜による表面特性の制御

論文・著書情報

タイトル

和文:	0.3 nm高さの直線状原子ステップを有するPMMA及びポリイミドシートにおける光化学反応および成膜による表面特性の制御
英文:	Control of surface characteristics by photo chemical reaction and film deposition on 0.3 nm high-linear atomic stepped PMMA and polyimide sheets

著者

和文:	山田志織, 岩佐健, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
英文:	Shiori Yamada, Ken Iwasa, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
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巻, 号, ページ

出版年月

2018年9月5日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

開催地

和文:	名古屋
英文:	Nagoya

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