アモルファスGa<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜のエキシマレーザー照射による室温固相エピタキシーにおける作製因子の検討

論文・著書情報

タイトル

和文:	アモルファスGa₂O₃薄膜のエキシマレーザー照射による室温固相エピタキシーにおける作製因子の検討
英文:	Examination of film formation factor of solid phase epitaxy in room temperature of amorphous Ga₂O₃ by excimer laser annealing

著者

和文:	森田公之, 大賀友瑛, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
英文:	Hiroyuki Morita, Tomoaki Oga, Nobuo Tsuchimine, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

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巻, 号, ページ

出版年月

2018年9月5日

出版者

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会議名称

和文:	2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

開催地

和文:	名古屋
英文:	Nagoya

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