Pattern Similarity Metrics for Layout Pattern Classification and their Validity Analysis by Lithographic Responses

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Pattern Similarity Metrics for Layout Pattern Classification and their Validity Analysis by Lithographic Responses

著者

和文:	高橋篤司, 佐藤真平, 小椋弘貴, Yu-Min Sung, Ting-Chi Wang.
英文:	Atsushi Takahashi, Shimpei Sato, Hiroki Ogura, Yu-Min Sung, Ting-Chi Wang.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. 2018 IEEE Computer Society Annual Symposium on VLSI (ISVLSI)

巻, 号, ページ

pp. 494-497

出版年月

2018年7月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:	Hong Kong

DOI