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論文・著書情報


タイトル
和文:CF4/O2混合ガスプラズマを⽤いたCaF2単結晶およびCaF2/Siヘテロ構造の反応性イオンエッチング 
英文:Reactive ion etching of CaF2/Si heterostructure using CF4/O2 plasma 
著者
和文: 熊⾕佳郎, 渡辺正裕.  
英文: Yoshiro Kumagai, MASAHIRO WATANABE.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ         p. 12-436
出版年月 2017年9月5日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第78回応用物理学会学術講演会 
英文:The 78th Autumn Meeting of The Jpn. Soc. of Appl. Phys. 
開催地
和文:福岡 
英文: 

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