表面X線回折によるAg/Si(111)√3x√3-B界面構造の研究 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	表面X線回折によるAg/Si(111)√3x√3-B界面構造の研究
英文:

著者

和文:	吉池雄作, 田尻寛男, 山崎詩郎, 中辻寛, 平山博之.
英文:	Yusaku Yoshiike, 田尻寛男, 山崎詩郎, Kan Nakatsuji, HIROYUKI HIRAYAMA.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2018年3月24日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本物理学会第73回年次大会
英文:

開催地

和文:
英文:

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.