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論文・著書情報


タイトル
和文:FeSb2薄膜のヘテロエピタキシャル成長と熱電特性 
英文:FeSb2薄膜のヘテロエピタキシャル成長と熱電特性 
著者
和文: 山本千紘, 半沢幸太, 井手啓介, 片瀬貴義, 平松秀典, 細野秀雄, 神谷利夫:.  
英文: 山本千紘, 半沢幸太, 井手啓介, 片瀬貴義, 平松秀典, 細野秀雄, 神谷利夫:.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2018年11月9日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:薄膜材料デバイス研究会 第15回研究集会 
英文:薄膜材料デバイス研究会 第15回研究集会 
開催地
和文:京都 
英文:kyoto 

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