Crystallinity improvement using migration-enhancement methods for sputtered-MoS2 films

論文・著書情報

タイトル

和文:	Crystallinity Improvement using Migration-Enhancement Methods for Sputtered-MoS2 Films
英文:	Crystallinity improvement using migration-enhancement methods for sputtered-MoS2 films

著者

和文:	S. Hirano, 清水淳一, 松浦賢太朗, 大橋匠, 宗田伊理也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
英文:	S. Hirano, J. Shimizu, K. Matsuura, T. Ohashi, I. Muneta, K. Kakushima, K. Tsutsui, H. Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	2017 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM)
英文:	2017 IEEE Electron Device Technology and Manufacturing Conference (EDTM)

巻, 号, ページ

pp. 234-235

出版年月

2017年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2017 IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM)

開催地

和文:	富山
英文:	Toyama

公式リンク

DOI