パルスエキシマレーザー照射によるβ-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜の室温固相エピタキシーにおける結晶化過程の評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	パルスエキシマレーザー照射によるβ-Ga₂O₃薄膜の室温固相エピタキシーにおける結晶化過程の評価
英文:	Investigation on solid-phase epitaxy process of β-Ga₂O₃ by pulsed excimer laser annealing at room temperature

著者

和文:	森田公之, 大賀友瑛, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
英文:	Hiroyuki Morita, Tomoaki Oga, Nobuo Tsuchimine, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年2月25日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第66回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

開催地

和文:	東京
英文:	Tokyo

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