室温PLDを用いた高濃度不純物添加NiO(111)薄膜の作製と熱電特性評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	室温PLDを用いた高濃度不純物添加NiO(111)薄膜の作製と熱電特性評価
英文:	Thermoelectric characterization of heavily impurity doped epitaxial NiO(111) thin films grown by room temperature PLD

著者

和文:	篠﨑佳晴, 中西昴, 金子智, 木村好里, 松田晃史, 吉本護.
英文:	Yoshiharu Shinozaki, Subaru Nakanishi, Satoru Kaneko, YOSHISATO KIMURA, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年9月4日

出版者

和文:	応用物理学会
英文:	The Japan Society of Applied Physics

会議名称

和文:	第80回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 80th JSAP Autumn Meeting, 2019

開催地

和文:	札幌
英文:	Sapporo

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