TiN/Ti Ohmic Contact for Sputtered-MoS2 Film using Forming-Gas Annealing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	TiN/Ti Ohmic Contact for Sputtered-MoS2 Film using Forming-Gas Annealing

著者

和文:	外山真矢人, 大橋匠, 松浦賢太朗, 清水淳一, 宗田伊理也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
英文:	M. Toyama, T. Ohashi, K. Matsuura, J. Shimizu, I. Muneta, K. Kakushima, K. Tsutsui, H. Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年10月19日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Advanced Metallization Conference 2017: 27th Asian Session

開催地

和文:
英文:	Tokyo

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