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論文・著書情報


タイトル
和文:Silicon doping and N2 ambient annealing effects on Zn3N2 thin film transistors 
英文:Silicon doping and N2 ambient annealing effects on Zn3N2 thin film transistors 
著者
和文: Kaiwen Li, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Dong Lin, Jinhua Ren, Qun Zhang.  
英文: Kaiwen Li, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Dong Lin, Jinhua Ren, Qun Zhang.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2019年11月8日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:薄膜材料デバイス研究会 第16回研究集会「新時代に向けた薄膜材料のデバイス技術」 
英文:薄膜材料デバイス研究会 第16回研究集会「新時代に向けた薄膜材料のデバイス技術」 
開催地
和文: 
英文: 

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