光電子ホログラフィー法によるシリコン中に高濃度ドープされた活性および不活性な不純物原子の三次元原子配列構造の観測

論文・著書情報

タイトル

和文:	光電子ホログラフィー法によるシリコン中に高濃度ドープされた活性および不活性な不純物原子の三次元原子配列構造の観測
英文:

著者

和文:	筒井一生, 松下智裕, 名取鼓太郞, 小川達博, 室隆桂之, 森川良忠, 星井拓也, 角嶋邦之, 若林整, 林好一, 松井文彦, 木下豊彦.
英文:	KAZUO TSUTSUI, 松下智裕, 名取鼓太郞, 小川達博, 室隆桂之, 森川良忠, Takuya Hoshii, Kuniyuki KAKUSHIMA, Hitoshi Wakabayashi, 林好一, 松井文彦, 木下豊彦.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 119 No. 96 pp. 23-27

出版年月

2019年6月21日

出版者

和文:	電子情報通信学会
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会議名称

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開催地

和文:
英文: