Ferroelectric Properties of Si doped HfO2 Thin Films with NiSi2 as Bottom Electrode

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Ferroelectric Properties of Si doped HfO2 Thin Films with NiSi2 as Bottom Electrode

著者

和文:	モリナレイエスホエル, 岩塚正晴, 星井拓也, 大見俊一郎, 舟窪浩, A. Hori, I. Fujiwara, 若林整, 筒井一生, 角嶋邦之.
英文:	J. Molina, H. Iwatsuka, T. Hoshii, S. Ohmi, H. Funakubo, A. Hori, I. Fujiwara, H. Wakabayashi, K. Tsutsui, K. Kakushima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年5月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	235th ECS Meeting

開催地

和文:
英文:	Dallas