Endurance Improvement in Ferroelectric Y-doped HfO2 Thin Films on NiSi2 with Low-Thermal Budget Processing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Endurance Improvement in Ferroelectric Y-doped HfO2 Thin Films on NiSi2 with Low-Thermal Budget Processing

著者

和文:	モリナレイエスホエル, 星井拓也, 大見俊一郎, 舟窪浩, 堀敦, Ichiro Fujiwara, 若林整, 筒井一生, 角嶋邦之.
英文:	Joel Molina-Reyes, Takuya Hoshii, Shun-Ichiro Ohmi, Hiroshi Funakubo, Atsushi Hori, Ichiro Fujiwara, Hitoshi Wakabayashi, Kazuo Tsutsui, Kuniyuki Kakushima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Solid State Devices and Materials (SSDM2019)

開催地

和文:
英文:	Nagoya