Positive Threshold Voltage in Accumulation Capacitance of TiN-Top-Gate/High-k/Sputtered-MoS2 Stacks

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Positive Threshold Voltage in Accumulation Capacitance of TiN-Top-Gate/High-k/Sputtered-MoS2 Stacks

著者

和文:	谷川晴紀, K. Matsuura, 宗田伊理也, 星井拓也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
英文:	H. Tanigawa, K. Matsuura, I. Muneta, T. Hoshii, K. Kakushima, K. Tsutsui, H. Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Int. Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices -Science and Technology- (IWDTF2019)

開催地

和文:
英文:	Tokyo