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タイトル
和文:凹凸AlGaN層導入によるAlGaN/GaN HEMT構造のコンタクト抵抗低減手法におけるドットアレイ状平面パターンのサイズ効果 
英文: 
著者
和文: 久永 真之佑, 渡部 拓巳, 星井 拓也, 角嶋 邦之, 若林 整, 岩井 洋, 筒井 一生.  
英文: Shinnnosuke Hisanaga, Takumi Watanabe, Takuya Hoshii, Kuniyuki KAKUSHIMA, Hitoshi Wakabayashi, HIROSHI IWAI, KAZUO TSUTSUI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2018年9月18日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第79回応用物理学会秋季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:名古屋 
英文: 

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