エピタキシャル成長したHfO2基薄膜を用いた強誘電相出現に関する研究 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	エピタキシャル成長したHfO2基薄膜を用いた強誘電相出現に関する研究
英文:	A study on stabilization of ferroelectric phase in epitaxial HfO2 - based films

著者

和文:	三村和仙.
英文:	Takanori Mimura.

種別

種別:	学位論文(博士)論文要旨
国名:	日本

言語

Japanese

学位授与組織

東京工業大学

報告番号

甲第11452号

学位授与日

2020/03/26

審査員

舟窪浩, 東正樹, 伊藤満, 細田秀樹, 大見俊一郎, 武田博明.

ファイル

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