Highly accurate CD control at stitching region for electron-beam projection lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Highly accurate CD control at stitching region for electron-beam projection lithography

著者

和文:	T. Fujiwara, T. Irita, S. Shimizu, H. Yamamoto, 鈴木一明.
英文:	T. Fujiwara, T. Irita, S. Shimizu, H. Yamamoto, Kazuaki Suzuki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proceeding of SPIE

巻, 号, ページ

Vol. 4343 pp. 727-735

出版年月

2001年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	SPIE Microlithography

開催地

和文:
英文:	Santa Clara, CA