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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Analysis of the sheath in the weakly ionized plasmaby the particle simulation 
著者
和文: 岸田賢人, 小倉貴志, 赤塚洋.  
英文: Kento Kishida, Takashi Ogura, Hiroshi Akatsuka.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Proc. ISPlasma2020/IC-PLANTS2020 
巻, 号, ページ        
出版年月 2020年3月8日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:ISPlasma2020/IC-PLANTS2020 
開催地
和文:名古屋 
英文:Nagoya 
公式リンク http://www.isplasma.jp/file/Poster_Session_3.pdf
 

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