NiSi2 as a Promotor of Ferroelectricity in Si-doped HfO2 Thin Films after Low-Thermal Budget Processing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	NiSi2 as a Promotor of Ferroelectricity in Si-doped HfO2 Thin Films after Low-Thermal Budget Processing

著者

和文:	モリナレイエスホエル, Haruki Iwatsuka, Takuya Hoshii, 大見俊一郎, 舟窪浩, 堀敦, Ichiro Fujiwara, 若林整, Kazuo Tsutsui, 角嶋邦之.
英文:	Joel Molina-Reyes, Haruki Iwatsuka, Takuya Hoshii, Shun-Ichiro Ohmi, Hiroshi Funakubo, Atsushi Hori, Ichiro Fujiwara, Hitoshi Wakabayashi, Kazuo Tsutsui, Kuniyuki Kakushima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2019年6月9日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	VLSI 2019 (2019 Symposia on VLSI Technology and Circuits)

開催地

和文:
英文:	Kyoto