Si surface passivation by using triode-type plasma-enhanced chemical vapor deposition with thermally energized film-precursors

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Si surface passivation by using triode-type plasma-enhanced chemical vapor deposition with thermally energized film-precursors

著者

和文:	Chisato Niikura, 白取優大, 宮島晋介.
英文:	Chisato Niikura, Yuta Shiratori, Shinsuke Miyajima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The European Physical Journal Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 89 No. 1 pp. 10101

出版年月

2020年3月27日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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