NiSi2 as a Bottom Electrode for Enhanced Endurance of Ferroelectric Y-doped HfO2 Thin Films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	NiSi2 as a Bottom Electrode for Enhanced Endurance of Ferroelectric Y-doped HfO2 Thin Films

著者

和文:	モリナレイエスホエル, 星井拓也, 大見俊一郎, 舟窪浩, 堀敦, Ichiro Fujiwara, 若林整, 筒井一生, 角嶋邦之.
英文:	Joel Molina-Reyes, Takuya Hoshii, Shun-Ichiro Ohmi, Hiroshi Funakubo, Atsushi Hori, Ichiro Fujiwara, Hitoshi Wakabayashi, Kazuo Tsutsui, Kuniyuki Kakushima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 59 No. SG

出版年月

2020年2月19日

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

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