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論文・著書情報


タイトル
和文:光触媒を用いたTyr残基修飾反応における一電子移動範囲の解明 
英文: 
著者
和文: 羽田野 兼資, 佐藤 伸一, 中村 浩之.  
英文: Kensuke Hatano, Shinichi Sato, Hiroyuki Nakamura.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2016年3月24日 
出版者
和文: 
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会議名称
和文:日本化学会第96回年会 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

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