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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Calculation of ultimate on-resistance in GaN lateral HFETs using device simulation 
著者
和文: 寺山 一真, A. Nakajima, S. Nishizawa, H. Ohasi, 角嶋 邦之, 若林 整, 筒井 一生, H. Iwai.  
英文: K. Terayama, A. Nakajima, S. Nishizawa, H. Ohasi, K. Kakushima, H. Wakabayashi, K. Tsutsui, H. Iwai.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2014年2月7日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics: WIMNACT 39 
開催地
和文: 
英文:Yokohama 

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