Effect of Annealing Temperature on Sheet Resistance of Ni Germanide Formed by Multi-Layered Ni and Ge Films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of Annealing Temperature on Sheet Resistance of Ni Germanide Formed by Multi-Layered Ni and Ge Films

著者

和文:	元木雅章, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋.
英文:	M. Motoki, K. Kakushima, Y. Kataoka, A. Nishiyama, N. Sugii, H.Wakabayashi, K. Tsutsui, K. Natori, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2014年2月7日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics: WIMNACT 39, Yokohama

開催地

和文:
英文:	Yokohama