Determination of oxide traps distribution in high-k/InGaAs MOS capacitor by capacitance-voltage measurement

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Determination of oxide traps distribution in high-k/InGaAs MOS capacitor by capacitance-voltage measurement

著者

和文:	DOU CHUN MENG, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, H. Iwai.
英文:	Chunmeng Dou, Kakushima, Y. Kataoka, A. Nishiyama, N. Sugii, H. Wakabayashi, K. Tsutsui, K. Natori, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2014年2月7日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics: WIMNACT 39

開催地

和文:
英文:	Yokohama