English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Reliability of La-Silicate Mos Capacitors With Tungsten Carbide Gate Electrode
著者
和文:
細田 修平
,
TUOKEDAERHAN KAMALE
,
角嶋 邦之
,
片岡 好則
,
西山 彰
,
杉井 信之
,
若林 整
,
筒井 一生
,
名取 研二
,
岩井 洋
.
英文:
Shuhei Hosoda
,
Kamale Tuokedaerhan
,
Kuniyuki Kakushima
,
Yoshinori Kataoka
,
Akira Nishiyama
,
Nobuyuki Sugii
,
Hitoshi Wakabayashi
,
Kazuo Tsutsui
,
Kenji Natori
,
Hiroshi Iwai
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
巻, 号, ページ
出版年月
2013年10月27日
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
224th ECS Meeting in San Francisco
開催地
和文:
英文:
San Francisco
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.