Atomically flat La-silicate/Si interface using tungsten carbide gate electrode with nano-sized grain

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Atomically flat La-silicate/Si interface using tungsten carbide gate electrode with nano-sized grain

著者

和文:	TUOKEDAERHAN KAMALE, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋.
英文:	"K. Tuokedaerhan", "K. Kakushima", "Y. Kataoka", "A. Nishiyama", "N. Sugii", "H. Wakabayashi", "K. Tsutsui", "K. Natori", "H. Iwai".

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Applied Physics Letters (APL)

巻, 号, ページ

Vol. 104 No. 2

出版年月

2014年1月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文: