Production-worthy approach of Plasma Doping (PD)

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Production-worthy approach of Plasma Doping (PD)

著者

和文:	水野文二, 佐々木裕平, C. G. Jin, K. Okashita, K. Nakamoto, T. Kitaoka, 筒井一生, HENDRIANSYAH SAUDDIN, 岩井洋.
英文:	B. Mizuno, Y. Sasaki, C. G. Jin, K. Okashita, K. Nakamoto, T. Kitaoka, K. Tsutsui, H. A. Sauddin, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2008年10月20日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The 9th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology (ICSICT 2008)

開催地

和文:
英文:	Beijing