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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Stacked sputtering process for Ti, Ta, and W carbide formation for gate metal application 
著者
和文: TUOKEDAERHAN KAMALE, "R. Tan, 角嶋 邦之, AHMET PARHAT, 片岡 好則, 西山 彰, 杉井 信之, 若林 整, 筒井 一生, 名取 研二, 服部 健雄, 岩井 洋.  
英文: "K. Tuokedaerhan", "R. Tan, K. Kakushima", "P. Ahmet", "Y. Kataoka", "A. Nishiyama", "N. Sugii", "H. Wakabayashi", "K. Tsutsui", "K. Natori", "T. Hattori", "H. Iwai".  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Applied Physics Letters (APL) 
巻, 号, ページ Vol. 103       
出版年月 2013年9月 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.1063/1.4821134

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