Effects of B or Al Interface Layers on Thermal Stability of Ni Silicide on Si

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effects of B or Al Interface Layers on Thermal Stability of Ni Silicide on Si

著者

和文:	筒井一生, T. Shiozawa, K. Nagahiro, 大石善久, 角嶋邦之, AHMET PARHAT, N. Urushihara, 鈴木昌弘, 岩井洋.
英文:	K. Tsutsui, T. Shiozawa, K. Nagahiro, Y. Ohishi, K. Kakushima, P. Ahmet, N. Urushihara, M. Suzuki, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2008年5月18日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	213th ECS Meeting

開催地

和文:
英文:	Phoenix