Improvement of Thermal Stability of Ni Silicide by Al Interlayer Deposition

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Improvement of Thermal Stability of Ni Silicide by Al Interlayer Deposition

著者

和文:	Takashi Shiozawa, Koji Nagahiro, 筒井一生, AHMET PARHAT, 角嶋邦之, 岩井洋.
英文:	Takashi Shiozawa, Koji Nagahiro, Kazuo Tsutsui, Parhat Ahmet, Kuniyuki Kakushima, Hiroshi Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2007年5月18日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	ECS-ISTC2007

開催地

和文:
英文:	Shanghai