原子層薄膜CaF<sub>2</sub>/Siヘテロ構造を用いたp 型共鳴トンネルダイオードの室温微分負性抵抗特性

論文・著書情報

タイトル

和文:	原子層薄膜CaF₂/Siヘテロ構造を用いたp 型共鳴トンネルダイオードの室温微分負性抵抗特性
英文:	Room Temperature Negative Differential Resistance of Si/CaF₂ Double-barrier Resonant Tunneling Diodes

著者

和文:	三上萌, 福山聡史, 渡辺正裕.
英文:	Kizashi Mikami, Satoshi Fukuyama, Masahiro Watanabe.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

p. 11-192

出版年月

2019年3月9日

出版者

和文:	応用物理学会
英文:

会議名称

和文:	第66回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 66th The Japan Society of Applied Physics Spring Meeting

開催地

和文:	東京
英文:	Tokyo

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