トンネル結合した電荷センサを持つ物理形成シリコン量子ドットの特性評価 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	トンネル結合した電荷センサを持つ物理形成シリコン量子ドットの特性評価
英文:

著者

和文:	溝口来成, 西山伸平, 加藤公彦, 柳永勛, 森貴洋, 小寺哲夫.
英文:	Raisei Mizokuchi, Shimpei Nishiyama, 加藤公彦, 柳永勛, 森貴洋, Tetsuo Kodera.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2020年9月11日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第81回応用物理学会秋季学術講演会
英文:

開催地

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