深掘り反応性イオンエッチング（DRIE）における開口パターンの高アスペクト比形状への影響

論文・著書情報

タイトル

和文:	深掘り反応性イオンエッチング（DRIE）における開口パターンの高アスペクト比形状への影響
英文:	Effect of aperture pattern on high-aspect-ratio shape in deep reactive ion etching(DRIE)

著者

和文:	新井真俊, 松谷晃宏, 吉田和弘, 金俊完.
英文:	Masatoshi Arai, Akihiro Matsutani, KAZUHIRO YOSHIDA, Joon-wan KIM.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	山梨講演会講演論文集
英文:

巻, 号, ページ

No. 200-3 D44

出版年月

2020年11月16日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	山梨講演会
英文:	Yamanashi District Conference

開催地

和文:	山梨県
英文:

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