界面に適合するAMR法を用いた気液二相流計算手法による界面活性剤の濃度差マランゴニ効果を考慮した液膜形成シミュレーション

論文・著書情報

タイトル

和文:	界面に適合するAMR法を用いた気液二相流計算手法による界面活性剤の濃度差マランゴニ効果を考慮した液膜形成シミュレーション
英文:	A Simulation of Thin Liquid Film Forming with surfactants by Gas-Liquid Two-Phase Flow Solver with Interface-Adapted AMR method

著者

和文:	松下真太郎, 青木尊之.
英文:	Shintaro Matsushita, TAKAYUKI AOKI.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:	混相流シンポジウム2020講演論文集

巻, 号, ページ

出版年月

2020年8月23日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	混相流シンポジウム2020
英文:

開催地

和文:
英文: