Solid-phase epitaxial crystallization of β-Ga2O3 thin film by KrF excimer laser irradiation from backside of NiO (111)-buffered α-Al2O3 (0001) substrate at room temperature

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Solid-phase epitaxial crystallization of β-Ga₂O₃ thin film by KrF excimer laser irradiation from backside of NiO (111)-buffered α-Al₂O₃ (0001) substrate at room temperature

著者

和文:	森田公之, 松島拓海, 中村稀星, 金子健太, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
英文:	Hiroyuki Morita, Takumi Matsushima, Kisho Nakamura, Kenta Kaneko, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, Mamoru Yoshimoto.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Vacuum Science & Technology A

巻, 号, ページ

Volume 39 Issue 4 043414

出版年月

2021年6月3日

出版者

和文:
英文:	AIP Publishing

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

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DOI