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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Interface engineering of BEOL compatible ferroelectric Y:HfO2 device for enhanced endurance 
著者
和文: モリナ レイエス ホエル, 三村 和仙, Y. Nakamura, 清水 荘雄, 舟窪 浩, I. Fujiwara, 星井 拓也, 大見 俊一郎, 堀 敦, 若林 整, K. Tsutsui, 角嶋 邦之.  
英文: J. Molina, T. Mimura, Y. Nakamura, T. Shimizu, H. Funakubo, I. Fujiwara, T. Hoshii, S. Ohmi, A. Hori, H. Wakabayashi, K. Tsutsui, K. Kakushima.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2020年5月17日 
出版者
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会議名称
和文: 
英文:2020 IMW (The 12th International Memory Workshop) 
開催地
和文: 
英文: 

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