Normally-off sputtered-MoS2 nMISFETs with TiN top-gate electrode all defined by optical lithography for chip-level integration

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Normally-off sputtered-MoS2 nMISFETs with TiN top-gate electrode all defined by optical lithography for chip-level integration

著者

和文:	松浦賢太朗, 濱田昌也, 濱田拓也, 谷川晴紀, 坂本拓朗, Atsushi Hori, 宗田伊理也, 川那子高暢, 角嶋邦之, 筒井一生.
英文:	Kentaro Matsuura, Masaya Hamada, Takuya Hamada, Haruki Tanigawa, Takuro Sakamoto, Atsushi Hori, Iriya Muneta, Takamasa Kawanago, Kuniyuki Kakushima, Kazuo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) (Rapid Communication)

巻, 号, ページ

Vol. 59 No. 8 Page 80906

出版年月

2020年8月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI