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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Room-temperature deposition of a poling-free ferroelectric AlScN film by reactive sputtering 
著者
和文: TSAI Sung Lin, 星井 拓也, 若林 整, 筒井 一生, T-K. Chung, E. Chang, 角嶋 邦之.  
英文: S-L. Tsai, T. Hoshii, H. Wakabayashi, K. Tsutsui, T-K. Chung, E. Chang, K. Kakushima.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Applied Physics Letters 
巻, 号, ページ Vol. 118    No. 8    Page 82902
出版年月 2021年2月 
出版者
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会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.1063/5.0035335

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