N-type conduction of sputter-deposited polycrystalline Al0.78Sc0.22N films by Si ion implantation

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	N-type conduction of sputter-deposited polycrystalline Al0.78Sc0.22N films by Si ion implantation

著者

和文:	片岡淳司, TSAI Sung Lin, 星井拓也, 若林整, 筒井一生.
英文:	Junji Kataoka, Sung-Lin Tsai, Takuya Hoshii, Hitoshi Wakabayashi, Kazuo Tsutsui.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Applied Physics Express (APEX)

巻, 号, ページ

No. 2 pp. 21002

出版年月

2021年1月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI